Electron Beam Lithography System (EBLS)

Chalmers University of Technology

A high resolution Electron Beam Lithography System (EBLS) for Chalmers department of Microtechnology and Nanoscience — MC2.

Sista ansökningsdag
Tidsfristen för mottagande av anbud var 2015-04-13. Upphandlingen offentliggjordes den 2015-03-03.

Leverantörer
Följande leverantörer nämns i tilldelningsbeslut eller andra upphandlingsdokument:
Vem?

Vad?

Var?

Upphandlingshistorik
Datum Dokument
2015-03-03 Meddelande om upphandling
2015-07-14 Meddelande om tilldelning