Electron Beam Lithography System (EBLS)
A high resolution Electron Beam Lithography System (EBLS) for Chalmers department of Microtechnology and Nanoscience — MC2.
Sista ansökningsdag
Tidsfristen för mottagande av anbud var 2015-04-13.
Upphandlingen offentliggjordes den 2015-03-03.
Leverantörer
Följande leverantörer nämns i tilldelningsbeslut eller andra upphandlingsdokument:
Vem?
Vad?
Var?
Upphandlingshistorik
Datum |
Dokument |
2015-03-03
|
Meddelande om upphandling
|
2015-07-14
|
Meddelande om tilldelning
|