Electron Beam Lithographer
The department of Engineering Sciences at the Ångström Laboratory intends to require equipment for electron beam lithography (EBL) to be installed within the cleanroom. EBL is used for patterning in the nanometer range down to 10 nm.
Sista ansökningsdag
Tidsfristen för mottagande av anbud var 2014-02-11.
Upphandlingen offentliggjordes den 2013-12-20.
Leverantörer
Följande leverantörer nämns i tilldelningsbeslut eller andra upphandlingsdokument:
Vem?
Vad?
Var?
Upphandlingshistorik
| Datum |
Dokument |
| 2013-12-20
|
Meddelande om upphandling
|
| 2014-09-03
|
Meddelande om tilldelning
|