Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System (PECVD SiN machine)
Purchase of one (1) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System (PECVD SiN machine) to Lund Nano Lab, Division of Solid State Physicsyy at Lunds university.
Sista ansökningsdag
Tidsfristen för mottagande av anbud var 2012-08-28.
Upphandlingen offentliggjordes den 2012-06-21.
Leverantörer
Följande leverantörer nämns i tilldelningsbeslut eller andra upphandlingsdokument:
Vem?
Vad?
Var?
Upphandlingshistorik
| Datum |
Dokument |
| 2012-06-21
|
Meddelande om upphandling
|
| 2013-01-29
|
Meddelande om tilldelning
|